|
|
| System filtracyjny Compair SD |
|
System filtracyjny Compair SD to najnowsze urządzenie serii kosmetycznych systemów odciągowych Naildust. Ciche i mobilne urządzenie pozwoli Państwu na efektywne usuwanie pyłów i szkodliwych zapachów. Zgodnie z przeznaczeniem doskonale sprawdza się w gabinetach kosmetycznych i innych procesach w których emitowane są pyły i niebezpieczne cząstki. Compair SD łączy w sobie nowoczesność, solidność oraz wysoką wydajność przy niewielkim koszcie.
|
| Odciąg kosmetyczny Compair SD |
System wyposażony został w filtr wstępny (F5) oraz filtr combo składający się z dwóch stopni filtracji – filtra cząstek (H13) i modułu z węglem aktywnym (3,5kg).
System charakteryzuje się wysoką wydajnością przy niewielkim koszcie ekploatacji.
Wymiana filtra odbywa się bezproblemowo i z zachowaniem należnej czystości.
Sugerowane zastosowanie produktu:
System kosmetyczny Compair SD, innowacyjnej serii Naildust, został zaprojektowany z myślą o pracy w małych salonach kosmetycznych oraz studiach modelowania paznokci. Ze względu na niewielkie rozmiary i mobilność systemu, doskonale sprawdza się w tego typu zastosowaniach. Podczas piłowania, lakierowania oraz oczyszczania paznokci i skóry dłoni, emitowane są ultra-miniaturowe szkodliwe dla zdrowia cząstki.
Modelowanie paznokci, wiąże się z wszechobecnym pyłem powstający na skutek uzupełniania tipsów żelowych czy opiłowywania żelu, prezentowany przez nas system Compair SD, doskonale poradzi sobie z usuwaniem tego typu zanieczyszczeń.
Przed zakupem produktu prosimy o kontakt w celu potwierdzenia właściwego wyboru. Funcjonalność urządzenia zależy od zastosowania rodzaju wkładu filtracyjnego.
|
| Szczegółowe dane systemu odciągu i filtracji TBH CompairSD |
|
Konfiguracja wkładów filtracyjnych na podstawie rysunku znajdującego się z lewej strony. System odciągu i filtracji Compair SD został wyposażony kolejno w :
|
- filtr wstępny
- filtr cząstek H13
- węgiel aktywny
|
Istnieje możliwośc wyposażenia systemów Naildust w opcjonalne końcówki ssące, klosze oraz inne akcesoria dodatkowe.
|
Opis
|
Jednostka
|
Wartość
|
|
Przepływ
|
m³/h
|
max. 220
|
|
Efektywny przepływ
|
m³/h
|
30-150
|
|
Maks. ciśnienie statyczne
|
Pa
|
13000
|
|
Napięcie
|
V
|
230
|
|
Częstotliwość
|
Hz
|
50-60
|
|
Moc silnika
|
kW
|
1,1
|
|
Klasa ochronności
|
-
|
1
|
|
Silnik i napęd
|
-
|
bezszczotkowy
|
|
Poziom hałasu
|
db(A)
|
ok. 50
|
|
Poziom hałasu z modułem tłumiącym
|
db(A)
|
-
|
|
Złącze szeregowe
|
Sub-D
|
-
|
|
Waga
|
kg
|
ok. 27
|
|
Wymiary(wys. x szer. x gł.)
|
mm
|
560x290x290
|
|
Gniazdo wejściowe (średnica nominalna)
|
|
Gniazdo wejściowe (średnica nominalna) 12
|
liczba
|
brak
|
|
Gniazdo wejściowe (średnica nominalna) 32
|
liczba
|
brak
|
|
Gniazdo wejściowe (średnica nominalna) 50
|
liczba
|
2
|
|
Gniazdo wejściowe (średnica nominalna) 63
|
liczba
|
brak
|
|
Gniazdo wejściowe (średnica nominalna) 80
|
liczba
|
brak
|
|
Gniazdo wejściowe (średnica nominalna) 100
|
liczba
|
brak
|
|
Gniazdo wejściowe (średnica nominalna) 125
|
liczba
|
brak
|
|
Gniazdo wejściowe (średnica nominalna) 160
|
liczba
|
brak
|
|
Gniazdo wejściowe (średnica nominalna) 180
|
liczba
|
brak
|
|
Gniazdo wejściowe (średnica nominalna) 200
|
liczba
|
brak
|
|
Gniazdo wejściowe (średnica nominalna) 250
|
liczba
|
brak
|
|
Konfiguracja filtrów
|
|
Filtr Al(G3)
|
brak
|
|
Filtr wstępny (F5)
|
zawiera
|
|
Filtr workowy (F5/F6)
|
brak
|
|
Filtr Z-Line (F6/F7)
|
brak
|
|
Filtr cząstek (H13)
|
zawiera
|
|
Filtr MP-Tec
|
brak
|
|
Filtr patronowy
|
brak
|
|
Węgiel aktywny/granulat BAC
|
7l / 3,5kg
|
* - firma TBH Polska Sp. z o.o. dołożyła wszelkich starań by podane specyfikacje nie odbiegały od faktycznych parametrów urządzeń. Podane tabele należy jednak traktować wyłącznie jako dane orientacyjne (nie stanowią wiążącej oferty w rozumieniu przepisów prawa).
|
| Zasada działania urządzeń TBH |
Powyższy rysunek przedstawia schemat likwidacji zanieczyszczeń w systemie odciągu i filtracji TBH CompairSD. Dla ułatwienia zrozumienia zasady działania przedstawiono ją na rysunku. Niniejszy rysunek należy traktować jako przykład.
|
| UWAGA!! Maseczki ochronne nie gwarantują dostatecznej ochrony |
Stosowanie systemów filtracyjnych do zastosowań kosmetycznych, przy różnego rodzaju czynnościach pozwala chronić pacjentów i personel przed szkodliwymi zanieczyszczeniami. Warto pamiętać, iż stosowane maseczki ochronne w takich przypadkach, nie gwarantują dostatecznej ochrony przed niebiezpiecznymi cząstkami. Badania dowodzą, iż więcej niż 20% zanieczyszczeń nie jest zatrzymywanych przez maseczki ochronne. Cząstki te unoszą się w powietrzu i wnikają do organizmów osób przebywających w otoczeniu.
Dodatkowo usuwanie zanieczyszczeń pozwoli również oczyścić pole widzenia i zapewnić optymalną widoczność podczas zabiegu. W wielu gabinetach kosmetycznych i salonach manicure zbiera się dużo drażniących zapachów i ogromna ilość pyłu, tylko systemy odciągowe z odpowiednim ramieniem ssącym oraz z kilkoma stopniami filtracji, zapewnią efektywne usunięcie szkodliwych i niepożądanych zanieczyszczeń.
|
|
|
|
|
